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塑料成型工藝中描述的拋光與其他行業(yè)所需的表面拋光有很大不同，嚴(yán)格來(lái)說(shuō)，模具的拋光應(yīng)稱(chēng)為鏡面拋光。它不僅對(duì)拋光

本身有很高的要求，而且對(duì)表面平整度、的平滑度和幾何精度也有很高的標(biāo)準(zhǔn)。表面拋光通常僅需要光澤表面。鏡像處理標(biāo)準(zhǔn)

分為四個(gè)級(jí)別。

　　對(duì)于電解拋光、流體拋光的過(guò)程中，它是難以準(zhǔn)確地控制各部分的幾何精度，由于化學(xué)拋光所述超聲波拋光、磁性拋光的、表面質(zhì)量不是必需的，精密模具主要是基于機(jī)械拋光。 。

　　1、半精細(xì)拋光主要使用砂紙實(shí)驗(yàn)室和煤油協(xié)會(huì)。

　　2、精密拋光主要制作金剛石膏。通常的磨削，以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開(kāi)頭發(fā)的痕跡，拋光布為9um的金剛石研磨膏你可以使用方向盤(pán)。然后使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級(jí)的氈和金剛石漿料進(jìn)行拋光。要求精度為1微米或更大（包括1微米）的拋光工藝

必須是絕對(duì)清潔的空間，用于拋光模具。灰塵、煙霧，頭皮屑和唾液可能具有高精度拋光表面，可在工作數(shù)小時(shí)后獲得。

　　3、為了獲得機(jī)械拋光的基本程序，高質(zhì)量的拋光效果，最重要的是要有高質(zhì)量的拋光工具和砂紙和研磨膏等配件。最重要的是一個(gè)復(fù)雜的工作環(huán)境，需要一個(gè)潔凈室。拋光程序的選擇取決于先前加工的表面狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機(jī)械拋光的一般過(guò)程如下。粗拋、銑削、電火花、的處理之后磨削表面可以被選擇在35000-40000rpm的旋轉(zhuǎn)表面研磨機(jī)或超聲波粉碎機(jī)旋轉(zhuǎn)。常見(jiàn)的方法是使用直徑為3 mm、 WA＃400的輪子去除白色火花層。然后手動(dòng)油石磨，金剛石

砂巖和煤油條作為潤(rùn)滑劑或冷卻劑。一般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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